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隨著電子產品的應用越來越廣泛，電子設備的需求量就會在不斷的增長中，在半導體芯片生產的過程中不但會產生大量的工業污水而且還會產生具有污染性的工業廢氣，面對工廠產生的這部分工業廢氣應如何處理，本文了解關于半導體芯片生產工業的廢氣處理設備。
半導體芯片加工廠的工業廢氣主要包含了硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣、氨氣、硫酸霧等的酸/堿廢氣以及氮氧化物、二氧化硫、非甲烷總烴等的有機廢氣，具有揮發性的VOCs以及酸堿廢氣主要來源于對芯片的清洗、均膠、去膠、刻蝕、顯影過程中產生的，這部分的廢氣濃度小且排放量大。
半導體廢氣采用的是洗滌塔廢氣處理設備進行處理的，洗滌塔分為立式和臥式，這兩者之間的區別就在于立式廢氣洗滌塔是氣液兩相逆流接觸，而臥式廢氣洗滌塔是氣液兩相交叉流接觸。
洗滌塔廢氣處理設備主要由循環水箱、循環水管路、除霧層、填料層以及塔體組成，設備的工作流程大致為：酸/堿性廢氣收集→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪(達標排放)。
除了采用洗滌塔設備還可以選擇采用沸石轉輪或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐。
溫馨提示：半導體工業廢氣需先經過預處理過濾裝置進行大顆粒粉塵及雜質的去除才能進入沸石轉輪吸附裝置或者是TO直燃式熱氧化焚燒爐進行后續的處理。
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